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华为申请坩埚组件、生长晶体的装置及其方法专利 , 提升生长的晶体的质量 ...

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发表于 2026-5-4 17:45:31 | 显示全部楼层 |阅读模式
国家知识产权局信息显示,华为技术有限公司申请一项名为 " 坩埚组件、生长晶体的装置及其方法 " 的专利,公开号 CN121951700A,申请日期为 2024 年 10 月。; U  P: ^  g, E8 v; a8 I: q
专利摘要显示,本申请提供一种坩埚组件、生长晶体的装置及其方法,涉及半导体技术领域,用以解决如何提升晶体生长质量的问题。该坩埚组件包括坩埚和组分收集装置,坩埚包括坩埚本体和坩埚盖,坩埚本体和坩埚盖形成第一腔室;组分收集装置设于坩埚的外部,且与坩埚连接;组分收集装置用于收集生长目标晶体的组分;其中,组分收集装置与坩埚形成第二腔室,第一腔室与第二腔室连通。该坩埚组件用以提升生长的晶体的质量。
5 P0 `+ [( _- @% B4 q天眼查资料显示,华为技术有限公司,成立于 1987 年,位于深圳市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本 4104113.182 万人民币。通过天眼查大数据分析,华为技术有限公司共对外投资了 51 家企业,参与招投标项目 41878 次,财产线索方面有商标信息 5000 条,专利信息 5000 条,此外企业还拥有行政许可 1721 个。7 X, o) A; r# ~; c2 f
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本文源自:市场资讯
7 z* Y& Y% ^7 _5 Q$ s) ?作者:情报员
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